http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/49293
題名: | Total-internal-reflection-based photomask for large-area photolithography |
作者: | S.-K. Hung K.-H. Lin C.-C. Chen C.-H. Chou Y.-C. Lin |
公開日期: | 2016-05 |
關聯: | OPTICS AND LASER TECHNOLOGY 79 |
URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/49293 |
ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=0030-3992&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT |
URL: | http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0030399215303340 |
顯示於: | 物理研究所 |
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