http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/45331
題名: | High-κ samarium-based metal─organic framework for gate dielectric applications | 作者: | A. Pathak G.R. Chiou N.R. Gade M. Usman S. Mendiratta T.T. Luo T.W. Tseng J.W. Chen F.R. Chen K.H. Chen L.C. Chen K.L. Lu |
公開日期: | 2017 | 關聯: | ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES 9(26), 21872-21878 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/45331 | ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=1944-8244&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT |
顯示於: | 原子與分子科學研究所 |
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