http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/87831| 題名: | Deposition of GeSn film on Si substrate by plasma-enhanced chemical vapor deposition using GeCl4 and SnCl4 in H2 for developing short-wave infrared Si photonics | 作者: | Tzu-Hung Yang Zhe-Zhang Lin Shang-Che Tsai Jia-Zhi Dai Shih-Ming Chen Ming-Wei Lin Szu-yuan Chen |
公開日期: | 2023-08 | 關聯: | MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING 162:107515 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/87831 | ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=1369-8001&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT | URL: | https://doi.org/10.1016/j.mssp.2023.107515 |
| 顯示於： | 原子與分子科學研究所 |
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