http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/48645| 題名: | Growth and Electronic Properties of Sputtered Ni–NiO Films as a Potential Resistive Memory | 作者: | W. L. Jang Y. M. Lu C. L. Dong W. S. Hwang P. H. Hsieh C. L. Chen T. S. Chan |
公開日期: | 2013 | 關聯: | Science of Advanced Materials 5, 1-8 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/48645 | ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=1947-2935&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT |
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