http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/46959
題名: | Localized electrochemical deposition of copper monitored using real-time X-ray microradiography | 作者: | Seol, S. -K. Pyun, A. -R. Hwu, Y. Margaritondo, G. Je, J. -H. |
公開日期: | 2005-06-01 | 關聯: | ADVANCED FUNCTIONAL MATERIALS15(6), 934-937 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/46959 |
顯示於: | 物理研究所 |
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