High-energy Electron Beam Lithography for Nanoscale Fabrication

請用此 Handle URI 來引用此文件： http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/45438

題名:	High-energy Electron Beam Lithography for Nanoscale Fabrication
作者:	Wu, Cen Shawn Makiuchi, Yoshiyuki Chen, ChiiDong
公開日期:	2009
出版社:	IN-TECH
關聯:	Lithography (Vienna, Austria : IN-TECH)
URI:	http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/45438
顯示於：	物理研究所

顯示文件完整紀錄

檢查

TAIR相關文章

在 IR 系統中的文件，除了特別指名其著作權條款之外，均受到著作權保護，並且保留所有的權利。