http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/44041
題名: | Effect of carbon sources on silicon carbon nitride films growth in an electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition reactor | 作者: | Wu, J. J. Chen, K. H. Wen, C. -Y. Chen, L. C. Lo, H. J. Lin, S. T. |
公開日期: | 2000 | 關聯: | DIAMOND AND RELATED MATERIALS 9, 556-561 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/44041 | ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=0925-9635&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT |
顯示於: | 原子與分子科學研究所 |
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