http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/34602
題名: | Optimized reactive ion etching process for the fabrication of high-aspect-ratio silicon nanopillar arrays | 作者: | Chang, Yu-Fen Chou, Qiong-Ru Lin, Jiunn-Yuan Lee, Chau-Hwang |
公開日期: | 2006 | 會議: | MicroTAS (Tokyo, Japan : Society for Chemistry and Micro-Nano Systems) | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/34602 |
顯示於: | 應用科學研究中心 |
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