http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/33718
題名: | Performance Improvement of AlGaAs/GaAs QWIP by NH3 Plasma Treatment | 作者: | Lee, J. H. Chang, C. Y. Li, C. H. Lin, S. Y. Lee, S. C. |
公開日期: | 2012-07-01 | 關聯: | IEEE JOURNAL OF QUANTUM ELECTRONICS vol. 48, no. 7, pp. 922-926 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/33718 | ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=0018-9197&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT |
顯示於: | 應用科學研究中心 |
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