http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/33123
題名: | Local Electronic Structure and Electrical Characteristics of Nitrogen-Doped ZnO Films Grown by Remote Plasma Atomic Layer Deposition | 作者: | Chien, Jui-Fen Chen, Ching-Hsiang Shyue, Jing-Jong Chen, Miin-Jang |
公開日期: | 2012 | 關聯: | ACS Applied Materials & Interfaces 4 [7] 3471-3475 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/33123 | ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=1944-8244&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT |
顯示於: | 應用科學研究中心 |
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