http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/43854
題名: | Generally Applicable Self-Masked Dry Etching Technique for Nanotip Array Fabrication. | 作者: | Hsu, C. H. Lo, H. C. Chen, C. F. Wu, C. T. Hwang, J. H. Das, D. Tsai, J. Chen, L. C. Chen, K. H. |
公開日期: | 2004 | 關聯: | NANO LETTERS 4,471-475 | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/43854 | ISSN: | http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=1530-6984&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT |
顯示於: | 原子與分子科學研究所 |
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