http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/73704| 題名: | MCD and PEEM Studies of Magnetic Metal Thin Films Deposited on Topological Insulator (Poster) | 作者: | K. H. Ou Yang Y. H. Chu Z. Y. Huang C. W. Shih N. C. Hsu R. Sanker F. C. Chou C. I. Lu D. H. Wei F. H. Chang H. J. Lin Minn- Tsong Lin |
公開日期: | 2018-05-25 | 會議: | 2018 International Symposium on Emergent Crystalline Materials in Taiwan (TCECM) (Taoyuan, Taiwan : TCECM) | URI: | http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/73704 |
| 顯示於： | 原子與分子科學研究所 |
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