DNA as an Electron-Beam Sensitive Reagent for Nano-Patterning

請用此 Handle URI 來引用此文件： http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/46634

題名:	DNA as an Electron-Beam Sensitive Reagent for Nano-Patterning
作者:	Chen, Chii-Dong
公開日期:	2006
關聯:	Advanced Materials18, 1-2
URI:	http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/46634
顯示於：	物理研究所

顯示文件完整紀錄

檢查

在 IR 系統中的文件，除了特別指名其著作權條款之外，均受到著作權保護，並且保留所有的權利。