Electrochemical Behavior of Aluminum during Chemical-Mechanical Polishing in Phosphoric Acid Base Slurry

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題名:	Electrochemical Behavior of Aluminum during Chemical-Mechanical Polishing in Phosphoric Acid Base Slurry
作者:	Kuo, Hong-Shi Tsai, Wen-Ta
公開日期:	2000
關聯:	JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY147 (1), 149
URI:	http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/46616
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