Photodissociation of Azulene at 193 nm: Ab Initio and RRKM Study.

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題名:	Photodissociation of Azulene at 193 nm: Ab Initio and RRKM Study.
作者:	Dyakov, Y. A. Ni, C. K. Lin, S. H. Lee, Y. T. Mebel, A. M.
公開日期:	2005
關聯:	J. Phys. Chem. A. 109, 8774-8784
URI:	http://ir.sinica.edu.tw/handle/201000000A/42891
ISSN:	http://gateway.isiknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Drexel&SrcApp=hagerty_opac&KeyRecord=1089-5639&DestApp=JCR&RQ=IF_CAT_BOXPLOT
顯示於：	原子與分子科學研究所

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