2004 | MBE Grown High k Gate Dielectrics of HfO2 and (Hf-Al)O2 for Si and III-V Semiconductors Nano-electronics | Lee, W. G.; Lee, Y. J.; Wu, Y. D.; Chang, P.; Hsu, Y. L.; Chen, C. P.; Mannaerts, J. P.; Maikap, S.; Liu, C. W.; Lee, L. S.; Hsieh, W. Y.; Tsai, M. J.; Lin, S. Y.; Lo, R. L.; Hong, M.; Kwo, J. | | | | |
2005 | MBE-grown high gate dielectrics of HfO2 and (Hf–Al)O2 for Si and III–V semiconductors nano-electronics | Lee, W. C.; Lee, Y. J.; Wu, Y. D.; Chang, P.; Huang, Y. L.; Hsu, Y. L.; Mannaerts, J. P.; Lo, R. L.; Chen, F. R.; Maikap, S.; Lee, L. S.; Hsieh, W. Y.; Tsai, M. J.; Lin, S. Y.; Gustffson, T.; Hong, M.; Kwo, J. | Journal of crystal growth vol. 278, pp. 619-623 | | | |