公開日期 | 題名 | 作者 | 關聯 | scopus | WOS | 全文 |
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2004 | MBE Grown High k Gate Dielectrics of HfO2 and (Hf-Al)O2 for Si and III-V Semiconductors Nano-electronics | Lee, W. G.; Lee, Y. J.; Wu, Y. D.; Chang, P.; Hsu, Y. L.; Chen, C. P.; Mannaerts, J. P.; Maikap, S.; Liu, C. W.; Lee, L. S.; Hsieh, W. Y.; Tsai, M. J.; Lin, S. Y.; Lo, R. L.; Hong, M.; Kwo, J. |