公開日期 | 題名 | 作者 | 關聯 | scopus | WOS | 全文 |
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2012 | Effect of substrate bias on the promotion of nanocrystalline silicon growth from He-diluted SiH4 plasma at low temperature | Das, D.; Raha, D.; Chen, W. C.; Chen, K. H.; Wu, C. T.; Chen, L. C. | JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 27, 1303-1313 |